Publicaciones

Affichage de 6871 à 6880 sur 16086


  • Article dans une revue

RF and broadband noise investigation in high-k/metal gate 28-nm CMOS bulk transistor

Francois Danneville, Laurent Poulain, Yoann Tagro, Sylvie Lepilliet, Benjamin Dormieu, Daniel Gloria, P. Scheer, Gilles Dambrine

In order to pursue Moore's law, material engineering has constituted a real focus during the last decade. In particular, the recent introduction of new Gate stack using High-k dielectrics and Metal Gate (H-k/MG) for CMOS was a key point to downscale the 'Equivalent Oxide Thickness'....

International Journal of Numerical Modelling: Electronic Networks, Devices and Fields, 2014, 27, pp.736-747. ⟨10.1002/jnm.1972⟩. ⟨hal-01058062⟩

  • Communication dans un congrès

Acoustical twisting

Antoine Riaud, Michael Baudoin, Jean-Louis Thomas, Olivier Bou Matar

Joint 25th Conference of the Condensed Matter Division of the European Physical Society, and 14èmes Journées de la Matière Condensée, CMD25-JMC14, 2014, Paris, France. 2 p. ⟨hal-01015314⟩

  • Communication dans un congrès

Redox-coated nanoelectrode array : when molecular electronics meets electrochemistry

Jorge Trasobares, R. Sivakumarasamy, C. Whal, Francois Vaurette, T. Martin, Jean-Philippe Nys, Dominique Vuillaume, Didier Theron, Nicolas Clément

7th International Conference on Molecular Electronics, ElecMol14, 2014, Strasbourg, France. ⟨hal-01055038⟩

  • Communication dans un congrès

Impact du recuit d'activation sur la passivation par Al2O3 du silicium type p Cz

Matthieu Pawlik, Jean-Pierre Vilcot, Mathieu Halbwax, M. Gauthier, N. Le Quang

L'Al2O3 déposé par ALD est un diélectrique bien connu pour la passivation de surface du silicium type-p. Cependant, une étape de recuit post-dépôt est nécessaire pour activer la passivation. Grâce à des mesures de densités de charges effectives, de défauts d'interface, temps de vie de...

17èmes Journées Nationales du Réseau Doctoral en Micro-Nanoélectronique, JNRDM 2014, 2014, Villeneuve d'Ascq, France. 3 p. ⟨hal-01020286⟩